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當(dāng)前位置:
準(zhǔn)分子激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)

準(zhǔn)分子激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)

應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)年代測(cè)量,LA-ICP-MS連用。
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應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)年代測(cè)量,LA-ICP-MS連用。

產(chǎn)品型號(hào):

       Ex-Light 193。


產(chǎn)品說明:

       Ex-Light 193是新一代193nm準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)。采用了德國(guó)Mlase超穩(wěn)定的低功率準(zhǔn)分子激光器,讓設(shè)備使用更穩(wěn)定,壽命更長(zhǎng)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊,集成度高,光路簡(jiǎn)潔實(shí)用,光斑勻化效果好。能將激光器的能量最大限度地作用于樣品表面,提高樣品表面的激光。能量密度,增強(qiáng)剝蝕過程中的信號(hào)靈敏度。


技術(shù)特點(diǎn):

       193nm,超短脈寬,高峰值功率、靜態(tài)氣體壽命 >30天、激光器壽命 >20億次脈沖、樣品表面能量密>15J/cm2 、  多種樣品室方案可定制、反射/透射照明、同軸機(jī)器視覺,所見即所得。


應(yīng)用領(lǐng)域:

       同位素比率測(cè)定、流體包裹體研究、鋯石U/Pb紀(jì)年、海洋沉積物分析、環(huán)境分析、考古研究。