產(chǎn)品型號(hào):
Ex-Light 193。
產(chǎn)品說明:
Ex-Light 193是新一代193nm準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)。采用了德國Mlase超穩(wěn)定的低功率準(zhǔn)分子激光器,讓設(shè)備使用更穩(wěn)定,壽命更長。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊,集成度高,光路簡潔實(shí)用,光斑勻化效果好。能將激光器的能量最大限度地作用于樣品表面,提高樣品表面的激光。能量密度,增強(qiáng)剝蝕過程中的信號(hào)靈敏度。
技術(shù)特點(diǎn):
193nm,超短脈寬,高峰值功率、靜態(tài)氣體壽命 >30天、激光器壽命 >20億次脈沖、樣品表面能量密>15J/cm2 、 多種樣品室方案可定制、反射/透射照明、同軸機(jī)器視覺,所見即所得。
應(yīng)用領(lǐng)域:
同位素比率測定、流體包裹體研究、鋯石U/Pb紀(jì)年、海洋沉積物分析、環(huán)境分析、考古研究。